1. 고순도 석영의 응용 현황
고순도 석영은 우수한 물리적 및 화학적 특성을 가지고 있습니다. 특성에는 고온 저항성, 내식성, 고강도, 높은 투과율 및 낮은 열팽창 계수가 포함됩니다. 그것은 다음 분야에서 널리 사용됩니다. 반도체, 광섬유 통신, 광전지, 광학 및 전기 광원. 전략적 합병 산업에 중요한 지원 및 대체 불가능한 소재입니다.
고순도 석영을 생산하는 데는 두 가지 주요 기술이 있습니다. 그것은 물리 화학적 가공 및 정제 기술과 화학 합성 기술입니다. 현재 고순도 석영의 원료인 천연 결정이 점점 고갈되고 있으며, 기존의 맥석 원광은 규모가 작고 중규모이며 가공 및 정제가 어렵기 때문에 중국의 고순도 석영 원료는 공급이 부족하여 수입에 크게 의존하고 있습니다. 이러한 상황에서 최근 몇 년 동안 많은 기업이 화학 합성을 통한 고순도 석영 생산에 집중하기 시작했습니다.
2. 고순도 석영의 합성 방법
◈ 가스 단계 합성 방법
기체상 합성법은 화염 가수분해를 말합니다. 구체적으로는 실리콘 또는 유기실리콘 염화물을 원료로 사용합니다. 먼저 원료를 기화한 다음 수소와 산소와 혼합하고 고온에서 가수분해하여 안개와 같은 SiO2를 형성합니다. 마지막으로 냉각, 분리 및 탈산의 기체-고체 분리를 통해 고품질 석영을 얻습니다. 이 방법으로 얻은 석영은 기체상 SiO2이며 입자 크기는 100nm 미만입니다. 솜털 같은 다공성 외관, 큰 비표면적, 높은 화학적 순도 및 좋은 분산성을 가지고 있습니다.
◈ 화학적 침전법
화학적 침전법은 석영 분말을 합성하는 데 가장 널리 사용되는 방법 중 하나입니다. 이 방법은 이산화탄소 또는 산 용액과 함께 규산나트륨을 원료로 사용한 다음 계면활성제와 특정 합성 온도의 작용 하에서 반응시켜 메타규산 침전물을 얻습니다. 다음으로 여과, 세척, 건조 및 소성을 통해 최종적으로 SiO2를 얻습니다.
◈ 솔겔법
졸-겔법은 무기염 또는 금속 알콕사이드(일반적으로 에틸 실리케이트)를 원료로 사용합니다. 알코올을 공용매로, 산 또는 알칼리 용액을 촉매로 첨가하여 가수분해한 다음, 폴리축합하여 SiO2 겔을 형성합니다. 다음으로, SiO2 겔을 여과하고, 겔 내의 유기 용매를 세척, 건조 및 소성하여 SiO2 분말을 얻습니다.
◈ 사염화규소 액상 가수분해법
이 방법은 SiCl4 순수한 물과 접촉시키면 가수분해 및 중축합반응이 일어나고, 반응생성물의 세척, 여과, 건조, 소성 및 체질과정을 거쳐 SiO2분말을 얻는다.
3. 요약
위에 나열한 것은 고순도 합성 석영을 생산하는 주요 방법입니다. 이러한 방법은 다양한 분야에서 고순도 석영의 요구를 충족시키고 다양한 응용 분야에서의 성능과 안정성을 보장할 수 있습니다. 어느 정도 고순도 석영의 공급 부족 문제를 해결합니다.
고순도 석영은 주로 반도체, 태양광, 광섬유, 정밀 광학 등의 분야에서 사용됩니다. 이러한 분야는 석영의 순도와 미세함에 대한 엄격한 요구 사항이 있습니다. 따라서 실제 적용 전에 석영을 분쇄하고 분류하는 것이 매우 중요합니다. 칭다오 에픽에서 생산한 볼밀과 에어 분류기는 석영을 좋은 성능으로 분쇄하고 분류할 수 있습니다.
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